蓝宝石衬底研磨液技术配方

蓝宝石晶体C面与III-V和II-VI族的外延沉积薄膜之间的晶格常数失配率较小，同时符合GaN磊晶制程中耐高温的要求，使得蓝宝石单晶是超 高亮度的蓝、白光LED发光材料GaN最常用的衬底材料，而GaN磊晶的晶体质量与所使用的蓝宝石衬底(基板)表面加工质量密切相关。 目前，通用的研磨工序采用单一的高硬度3～6μm的金刚石作为蓝宝石衬底的研磨液，由于研磨液的金刚石粒径不均一，研磨后的蓝宝石衬底肉眼观察存在很深划痕，这在后道化学机械抛光过程中极难除去，同时，很多商家为了降低成本，研磨液中金刚石浓度极低，研磨效率不高，研磨后的蓝宝石晶片平整 度也较低。

针对上述技术问题华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项蓝宝石衬底的研磨液技术配方，该技术产品适用于对蓝宝石晶片的单面研磨。该研磨液的特点是分散均匀，化学稳定性好，研磨效率高、加工的晶片粗糙度值低、平整度好且无明显划痕，易于清洗。 该研磨液对蓝宝石晶体进行研磨，在保证衬底表面质量的前提下，提高研磨效率，有效地降低了加工成本，采用该研磨液进行研磨的蓝宝石衬底表面粗糙度低、平整度好、无明显划痕且易于清洗。现将该华炬蓝宝石衬底的研磨液技术配方及配制方法介绍如下：（611571  331543）

该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，
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