制备氧化铈抛光粉技术工艺方法

目前，稀土抛光粉的产品主要有两大类，一种是添加氟的稀土抛光粉。氟的作用主要是 作为矿化剂，氟在灼烧的过程中，改善产品的结构和形貌；氟通过参与稀土抛光粉的组成和 结构，提高稀土抛光粉的研磨能力。另一类产品是不添加氟的抛光粉。不添加氟的稀土抛光 粉在生产过程中，由于没有使用氟化物，避免了生产过程中带来的含氟废水、废气对环境的 污染，但是不含氟的稀土抛光粉存在下述缺点：抛光过程中抛削率弱、使用寿命短。当前稀土抛光粉主要应用于液晶屏、光学玻璃、计算机硬盘等领域，普适的对抛光粉性 能的评价标准是：即要抛光精度高，又要具有较高的抛光速度，但是两者是相互矛盾的存在， 一般情况下抛光速度快通常意味着抛光精度的下降，研究人员人常从元素掺杂等方面来解决 这个问题。

华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项制备氧化铈抛光粉技术工艺方法，该技术通过在铈系抛光粉沉淀过程前，沉淀体系中引入Ce4+的方法，提高了产品的质量。经过该技术工艺制备得到的氧化铈抛光粉，采用RL-13B高精密双面 研磨机进行抛光实验（抛光条件：压力200公斤，转速：20rpm、抛光圈数：500r；氧化铈抛 光液比重：1.06；抛光皮：合成革；抛光用玻璃：5英寸LCD盖板玻璃；）抛削率可达3.8μ m/min，抛光良率：97.22%，现将该华炬制备氧化铈抛光粉技术工艺方法及实例介绍如下：（611571  331646）

该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，
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