C向蓝宝石抛光液技术配方及制备方法

蓝宝石，又称白宝石，是人造单晶材料，分子式为Al2O3，为六方晶体结构，硬度极高(莫 氏硬度9.2～9.4)，并且耐高温、耐磨损、抗腐蚀、透光波段宽，是种优质光功能材料。CMP化学机械抛光技术综合了化学和机械抛光的优势，应用 CMP技术既可以得到高的抛光速率，又能获得完美的表面。蓝宝石晶体(a-Al2O3)是一种简 单配位型氧化物晶体，属六方晶系。若在晶体中以晶体中心为原点建立一个四轴定向的坐标 系统，则三根a轴在同一水平面上成120°角分布，c轴垂直于该平面(三根a轴所在的平面)。 业内常常提起的A向、C向就是分别和a轴、c轴垂直的面。目前CMP抛光液的60％～95％以上都是水，制造成本和运输费用高，且抛光液有着使用 寿命的限制，其品质与性能会随时间而劣化，有必要开发最新鲜的CMP抛光液产品，并使这些产品具备较高的技术含量。既改善蓝宝石两寸片 抛光的性能，降低生产成本，取得巨大的社会效益和经济效益。

华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项C向蓝宝石抛光液技术配方及制备方法，该技术产品应用在蓝宝石C向抛光工艺中，与现有技术相比，采用纯硅溶胶作为磨料，避免了氧化铝对磨液稳定性的影响。配比成分中氧化剂的加入，使得抛光过程中抛光液与蓝宝石晶片产生一定的 氧化反应，加速研磨抛光过程，提高了研磨效率，平均切削速率为2.2μm/h。另外，在制备方法中，特别限定了各种化学试剂的添加顺序，即先加入光亮剂和活性分 散剂的混合物，再加入氧化剂，最后加入增效剂，并对混合试剂的添加速度做出要求，规范 工艺后使得本申请抛光液的效果大为提升，经抛光的晶片表面粗糙度Ra＜0.5nm，平均表观良 率为95％，现将该华炬C向蓝宝石抛光液技术配方及制备方法介绍如下：（611571  331465）

该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，
供同仁参考交流，鉴于技术配方的特殊性，不接受投诉及退款，请斟酌后支付,谢谢！