氨水双氧水剥离钛和氮化钛膜技术工艺方法

随着半导体和液晶显示面板产业的不断发展，我国的半导体产业和液晶面板产业得到了很大提升，行业产能也越来越高。半导体和液晶显示面板等产业属于精细化产业，其对生产设备要求非常高，因此就要求设备的零部件需要进行定期维护，以保证生产精度。钛膜和氮化钛膜的化学稳定性好，熔点高达3000℃，硬度高、红硬性好，并兼有良好的韧性、耐磨性好等优点，因此，半导体和液晶显示面板等加工设备中的很多零部件表面都附着一层钛膜或氮化钛膜，以保持其性能。然而，在此种零部件维修维护时，需要对原有附着的钛膜或氮化钛膜进行去除，才能进行新的钛膜或氮化钛膜的操作，而现有技术中，去除工件表面附着的钛膜或氮化钛膜通常有化学溶液溶泡或采用机械剥离的方式去除等，去除效果不好，而且容易损伤工件本身。

华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项氨水双氧水溶液剥离钛和氮化钛膜技术工艺方法，针对上述提到的现有技术中的工件表面的钛膜或氮化钛膜去除时效果不好的缺点，该技术工艺方法利用氨水双氧水溶液剥离钛和氮化钛膜的方法，其利用氨水和双氧水进行化学反应的方法去除工件表面附着的钛或氮化钛，效果较好，现将该氨水双氧水溶液剥离钛和氮化钛膜技术工艺方法及步骤介绍如下供研究参考：（611511  361575）

该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，
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