铈基稀土抛光粉掺氟技术工艺方法

现有的铈基稀土抛光粉中都添加氟，起到改善晶体结构，参与抛光过程中的化学吸附，提高抛光能力的作用。掺氟方式主要有两种：一种是先合成碳酸稀土，然后进行氟化处理，制备掺氟稀土抛光粉；另一种是先生成稀土氟化物，然后用碳酸氢盐沉淀，制备掺氟稀土抛光粉，这两种方法都容易造成氟化不均匀的现象，影响最终产品的晶体结构。同时，无论是前氟化，还是后氟化，都牵涉到两次沉淀生成过程，粒度及粒度分布很难控制。两种掺氟方法的缺陷，严重影响了稀土抛光粉的抛光速率和精度，限制其在液晶屏、半导体硅片等领域的应用。因此，需要开发一种新的掺氟技术方法。

华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项铈基稀土抛光粉掺氟技术工艺方法，针对现有铈基稀土抛光粉掺氟方法中存在的缺陷，采用该技术方法所制备的铈基稀土抛光粉氟掺杂均匀，形貌为类球形，粒径及粒径分布可控，晶型可控；该技术采用共沉淀的方法制备掺氟的铈基稀土抛光粉，氟元素均匀的分布于抛光粉的晶格中，不存在单独的氟化物颗粒，将其用于抛光时，不会产生影响抛光速率和抛光精度的游离态氟离子；采用该技术制备的铈基稀土抛光粉可用于光学玻璃、液晶屏、半导体硅片等器件的抛光。产品切削力强，抛光速度快，划痕少，抛光精度容易得到控制，耐磨性好，使用时间长，现将该铈基稀土抛光粉掺氟技术工艺方法及实例介绍如下供研究参考：（611511  563545）

该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
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