高精度二氧化硅蚀刻液及其制备方法
电子化学品一般是指为电子工业配套的专用化学品，而超高纯湿电子化学 品主要包括集成电路和分立器件用化学品、晶体硅太阳能用化学品和平板显示 用化学品等，其具有质量要求高、功能性强、对生产及使用环境洁净度要求高 和产品更精纯。现有的二氧化硅蚀刻液，存在很多缺陷，如蚀刻速度慢，精度 低，不能满足客户需求。
华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项高精度二氧化硅蚀刻液及其制备方法，该技术产品蚀刻液经过精密混配，过滤等操作，去除产品中的杂质， 蚀刻精度高，速度快，完全满足极大规模集成电路的生产工艺，现将该高精度二氧化硅蚀刻液及其制备方法及实例介绍如下供研究参考：（611541 215624）
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该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，
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