低粘度钼铝钼蚀刻液技术配方
现有技术中，钼铝钼蚀刻液主要由硝酸、磷酸和醋酸组成，并且磷酸在蚀刻液中所占比例较高。钼铝钼蚀刻液已广泛应用于薄膜场效应晶体管液晶显示器(TFT-LCD)、发光二极管(LED)和有机发光二极管(OLED)等行业，具体用于制作面板过程中钼层和铝层的蚀刻中。传统技术配方在蚀刻强度、蚀刻角度及金属腐蚀性等方面表现出较好蚀刻性能。然而，现有的蚀刻液粘度较高，流动性差，易引发局部刻蚀不均匀等问题。同时，蚀刻液成本也较高。
华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项低粘度钼铝钼蚀刻液技术配方，该技术钼铝钼蚀刻液中，通过各组分的相互配合，可保证钼铝钼蚀刻液的蚀刻效果，并且其整体粘度低，可由16.32mpa·s降低至3.87mpa·s(20℃)，可减小因粘度过高而造成的局部蚀刻不均匀的可能性；同时，在特定含量的磷酸、硝酸、冰醋酸存在的前提下，加入添加剂可有效保证蚀刻效果，且从一定程度上降低成本，同时能确保其具有优良的蚀刻角度、蚀刻量以及蚀刻后无残留和金属腐蚀性低等性能，实现能够实现高效、精准的蚀刻；可大大降低产品成本，并且，该钼铝钼蚀刻液对金属层无腐蚀，现将该低粘度钼铝钼蚀刻液技术配方及实例介绍如下供研究参考：（611311 585522）
技术资料
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该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，鉴于技术配方的特殊性不接受退款，请根据需要斟酌后支付，谢谢。