环境友好型钛合金化学机械抛光液

化学机械抛光液技术的概念，该技术最初是用于获得高质量的玻璃表面，如军用望 远镜和光子仪器等。与传统的单纯机械或化学的抛光方法不同，CMP是通过化学 与机械的共同综合作用，因而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化 学抛光可能造成的抛光速度慢，表面平整度和抛光一致性差的缺陷。该技术是利 用磨损中的软磨硬的原理，也就是用较软的材料来进行抛光，以获得高质量 的表面抛光。在设定的压力和抛光液共同作用下，被抛光零件相对抛光垫作相对运动，借 助微细粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用的有机结合，获得高质量光性表面。 CMP技术已从原来主要应用于电路（IC）和超大规模集成电路（ULSI）对基材硅 晶体的抛光，拓展主薄膜存储磁盘，微电子机械和精密陶瓷、阀门、机械模具、 光子玻璃，重金属材料，特殊用途的有色金属及合金表面（包括锂及其合金、铝 及其合金、钛及其合金）等表面有特殊要求的加工领域。器件特征尺寸在0.35μ ｍ以下时，必须进行全局平面化，以确保精确度和分辨率。而ＣＭＰ抛光液是目 前几乎唯一的可以提供全局平面化的技术手段。其中化学抛光液是重要关键技术 之一。 通常情况下，抛光液中的磨料和种类、粒径大小、颗粒分散度、稳定性以及 化学物理性质都将与抛光液效果密切相关。此外，抛光垫的属性（如材料和平整 度等）也会极大的影响抛光效果。由于市场巨大的需求，排放以及后处理工作量 大，CMP不再重复使用，故提出环境友好型钛合金化学机械抛光液就显得尤为重 要。

华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项环境友好型钛合金化学机械抛光液，该技术产品具有良好的抗磨、 减磨性能和防锈性能，性能稳定，可以满足化学机械抛光加工的需要，现将该环境友好型钛合金化学机械抛光液及实例介绍如下供研究参考：（611511  363624）

该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，
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