通用单晶硅片清洗液技术配方

太阳能电池是利用太阳光和材料相互作用直接产生电能，不需要消耗燃料和水等物质，使用中不释放包括二氧化碳在内的任何气体，是对环境无污染的可再生能源。对改善生态环境、缓解温室气体的有害作用具有重大意义。因此太阳能电池有望成为21世纪的重要新能源。

随着全球晶硅太阳能电池的迅速发展和广泛应用，性能优良、稳定性好的高质量光伏器件越来越受到市场的青睐。其中，硅片表面的洁净度及表面态对高质量的光伏器件至关重要。硅片经过线切割加工，钢线的磨损、碳化硅的磨削以及切割液的残留，都不可避免的造成了硅片表面的脏污。硅片清洗的目的就在于清除晶片表面的颗粒、金属和有机物等脏污。如果硅片的清洗效果达不到要求，无论其他工序工艺条件多么优越，都无法最终制造出高品质的光伏电池器件。

常用的太阳能单晶硅片清洗的工艺流程是：酸洗、纯水漂洗、清洗剂洗、纯水漂洗、慢拉脱水烘干等。华炬新产品研究所技术咨询委员会技术人员现推荐通用单晶硅片清洗液技术配方，该技术为各企业常用技术，具有提高清洗效率，清洗效果佳等优点，运用该清洗液清洗方便，易于操作控制，且同时能有效的减少环境污染，适应于一般清洗、超声波清洗等等。现将通用单晶硅片清洗液技术配方技术资料介绍如下供研究参考：（811511  231544）

该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，
供同仁参考交流，鉴于技术配方的特殊性，不接受投诉及退款，请斟酌后支付,谢谢！