真空电子器件化学抛光液技术配方及方法
由于真空电子器件具有体积小、重量轻和高可靠性的突出优点，在小功率的现代武器装备中起着越来越重要的作用。随着真空电子器件的发展，迫切需要提高基材表面的光洁度、耐氧化性能的同时去除表面的毛刺。可伐件氧化膜致密，容易焊接和熔接，有良好的可塑性，可切削加工，广泛用于制作电真空原件、发射管等。而可伐件在旋压加工和线切割加工后，锯齿状的可伐件表面有微小的卷边和毛刺的存在，不易去除，通常是机械打磨或手工磨制。其效果并不理想，而且耗时耗力，合格率不高。
华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项真空电子器件化学抛光液技术配方及方法，该技术产品化学抛光液用于可伐件表面的化学抛光 ，可将表面的毛刺完全去除，省时省力，而且不影响可伐件的尺寸，同时也提高了可伐件的耐氧化性能，避免有微小毛刺的存在而导致真空电子器件打火等情况的发生，现将该真空电子器件化学抛光液技术配方及方法实例介绍如下供研究参考：（811511 231565）
技术资料
请支付后查看；1、点击下面"查看详细"按钮提交订单并打开付款码，2、用手机微信扫描付款码完成付款即可查看！！！
200.00元
该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，包括技术工艺、技术创新、技术配方、方法步骤及实例等方面的推荐，供同仁参考交流，鉴于技术配方的特殊性不接受退款，请根据需要斟酌后支付，谢谢。