显示屏用酸性蚀刻液
平板显示装置中，在基板上形成金属配线的过程通常包括以下工序：溅射形成金属膜；在金属膜上涂覆、曝光、显影光致抗蚀剂，从而在选择性区域形成光致抗蚀剂；及对金属膜进行蚀刻。另外，还包括个别单位工序前后的洗净工序等。这种蚀刻工序是指将光致抗蚀剂用作掩膜，以在选择性区域残留金属膜的工序。通常采用的蚀刻工序为使用等离子等的干式蚀刻、或使用蚀刻液的湿式蚀刻。
华炬新产品研究所技术咨询委员会科研人员现推荐一项显示屏用酸性蚀刻液，该技术与现有技术相比，在蚀刻液中加入含氟化合物和合适的添加剂，不引入任何金属离子和阴离子，蚀刻后的氧化层表面无残留，且能赋予蚀刻液较低的表面张力，增大蚀刻液渗透性；表面活性剂具有高表面活性疏水疏油的性质，与等量的其他表面活性剂相比，能极大的降低溶液的表面张力，因此其用量少，生产成本较低，现将该显示屏用酸性蚀刻液及实例介绍如下供研究参考：（811511 531614）
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该项目由华炬新产品研究所技术咨询委员会多位专家根据目前国内该领域最新技术推荐的新技术、新产品、新工艺，
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